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大尺寸沉積系統(tǒng)

作者:北京正通遠恒科技有限公司
  • 產(chǎn)品信息
  • 技術(shù)指標
  • 應(yīng)用領(lǐng)域
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名稱:ALD原子層沉積系統(tǒng)(大尺寸沉積系統(tǒng))

產(chǎn)地:中國

型號:Thermal-ALD E300S


工藝

可沉積薄膜種類和應(yīng)用場景包括:

? High-K介電材料 (Al2O3, H2O, ZrO2, PrAlQ, Ta2O5, La2O3);

? 金屬互聯(lián)結(jié)構(gòu) (Cu, WN, TaN, Ru, In);

? 催化材料 (Pt, Ir, Co, TiO2):

? 生物醫(yī)學涂層 (TiN, ZrN, TiAIN, AlTIN);

? 金屬(Ru, Pd, Ir Pt, Rh, Co, Cu, Fe, Ni);

? 壓電層 (ZnO, AIN, ZnS);

? 透明電學導體 (ZnO:Al, ITO);

? 光子晶體(ZnO, TiO2, Ta3N5);等


機架Cabinet

? 框架采用進口鋁材搭建,重量輕、承載能力強,散熱性好

? 外殼采用碳鋼烤漆及圓角處理,輕便美觀,拆卸方便,符合人體工學

? 顯示屏360度自由旋轉(zhuǎn),可調(diào)視距、視角、自由懸停


控制系統(tǒng)

? 控制系統(tǒng)采用 PLC+工控機+19 寸觸摸屏方式實現(xiàn),系統(tǒng)通過高速以太網(wǎng)進行通訊。

? 采用 PLC 對設(shè)備進行實時控制,同時實現(xiàn)基于Windows7 操作系統(tǒng)的人機界面互動,支持歷史數(shù)據(jù)、工藝配方、報警及日志的儲存和導入導出的功能

? 設(shè)備支持“一鍵沉積”功能,點擊運行按鍵即可自動完成真空抽取、升溫、材料沉積、降溫等一系列步驟。實現(xiàn)單一或多層材料的沉積;提供獨立的手動操作頁面,支持手動開關(guān)閥門的操作,人機交互同時支持鼠標、鍵盤和觸摸的輸入方式

? 設(shè)備運行軟件提供用戶權(quán)限管理功能,可根據(jù)用戶級別設(shè)定使用權(quán)限,防止誤操作,保證設(shè)備和人身安全

? 設(shè)備運行軟件提供邏輯互鎖功能,防止用戶誤操作,并彈出信息對話框進行提示

? 設(shè)備運行軟件集成安全及參數(shù)配置、IO互鎖列表信息功能


真空系統(tǒng)

? 真空測量采用雙真空壓力計組合方式,工藝數(shù)據(jù)更真實,更迅速,更精確,為工藝人員提供井真的數(shù)據(jù)采集來源,為工藝的可重復性提供了可靠的保障

設(shè)備規(guī)格

襯底尺寸

標準尺寸:300mm Dia (12 inch)(可定制)

工藝溫度

溫度范圍:RT~500°C 精度:土1°C(可定制)

前驅(qū)體路數(shù)

最大支持6路前驅(qū)體氣路(可定制),包含固、液態(tài)前驅(qū)體源瓶

加熱系統(tǒng)

RT~150℃

反應(yīng)物路數(shù)

支持2路反應(yīng)物氣路(可定制)

載氣

N2, MFC 流量控制(可定制)

壓力監(jiān)測

雙薄膜規(guī)組合(耐腐蝕),0.005Torr - 1000Torr

本底真空度

<5x10-3 Torr

真空系統(tǒng)

標準油泵

控制系統(tǒng)

19寸顯示器,支持觸控工業(yè)級嵌入式工控機,高可靠性,支持擴展

操作系統(tǒng)

Win7 操作系統(tǒng),工業(yè)級可編程邏輯控制器,支持現(xiàn)場總線與實時多任務(wù)處理操作




應(yīng)用領(lǐng)域

1.納米材料ALD 技術(shù)沉積參數(shù)高度可控,可在各種尺寸的復雜三維微納結(jié)構(gòu)基底上,實現(xiàn)原子級精度的薄膜形成和生長,可制備出高均勻性、高精度、高保形的納米級薄膜。ALD具有高致密性以及高縱寬比結(jié)構(gòu)均勻性,為MEMS機械耐磨損層、抗腐蝕層、介電層、憎水涂層、生物相容性涂層、刻蝕掩膜層等提供優(yōu)質(zhì)解決方案。ALD技術(shù)沉積參數(shù)高度可控,可通過精準控制循環(huán)數(shù)來控制MTJ所需達到的各項參數(shù),是適用于MTJ制造的工藝方案之一。ALD技術(shù)可通過表面修飾,改善納米孔的生物相容性,同時提升抗菌抑菌和促進細胞合成。

2.太陽能電池ALD基材料在c-Si太陽能電池中的應(yīng)用始于Al2O3,Al2O3是一種非常有效的表面鈍化層,被發(fā)現(xiàn)可以顯著提高c-Si太陽能電池的效率并應(yīng)用于大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化中。此后的研究中,ALD的應(yīng)用研究從表面鈍化層擴展到載流子傳輸材料[8]。

3.催化ALD技術(shù)很容易地控制納米顆粒的大小、孔隙結(jié)構(gòu)、含量和分散,有效設(shè)計出核殼結(jié)構(gòu)、氧化物/金屬倒載結(jié)構(gòu)、氧化物限域結(jié)構(gòu)、具有多金屬管套結(jié)構(gòu)和多層結(jié)構(gòu),且獨特的自限制特性可實現(xiàn)催化材料在高比表面材料上的均勻和可控沉積,實現(xiàn)一步步和“自底向上”的方式在原子層面上構(gòu)建復雜結(jié)構(gòu)的異質(zhì)催化劑材料而得到廣泛研究。利用ALD技術(shù)具有飽和自限制的表面反應(yīng)特性,有效抑制金屬有機化合物、配體的空間位置效應(yīng),天然的將金屬中心原子互相隔離開,抑制金屬原子聚集,合成單原子催化劑。利用ALD技術(shù)有效調(diào)控金屬與載體間的相互作用的特性,可獲得單金屬催化劑,如Ru、PtPd等貴金屬。利用ALD技術(shù)能調(diào)控兩種金屬元素生長順序、循環(huán)周期數(shù)的特性來精準得到雙金屬納米催化劑,合成原子級精準的超細金屬團簇,如PtPdPtRu、PdRu等雙金屬納米顆粒。利用ALD技術(shù)制備金屬氧化物,不僅可以制備性能更加優(yōu)良的多相催化劑,而且可以對負載型催化劑進行改性,達到修飾、保護催化劑的目的。

4.鋰電池:ALD在鋰離子電池中的應(yīng)用特點:(1)電極材料的制備和改性;(2)陰極材料上的保護鍍膜;(3)陽極材料上的人造固體電解質(zhì)相間(SEI);(4)鋰金屬陽極鈍化和防止枝晶生長;(5)ALD作用的固態(tài)電解質(zhì)(SSE);(6)隔離膜上的保護涂層;

原速科技ALD技術(shù)在鋰電池領(lǐng)域的應(yīng)用主要有以下幾個方面:

a、鋰電池PP/PE隔膜包覆,改善隔膜的浸潤性,耐壓性,熱收縮性能
b、鋰電池正極包覆,改善電池的倍率性能,循環(huán)性能等
c、鋰電池負極包覆,改善電池的倍率性能,循環(huán)性能以及安全性能

5.光學鍍膜ALD薄膜以飽和吸附的layer-by-layer生長模式,可在結(jié)構(gòu)復雜的幾何表面,如大曲面及高縱深比深孔結(jié)構(gòu),大面積形成高均勻性薄膜,且膜層相較于PVD膜更為致密,在界面處的結(jié)合力更強,更適用于未來工業(yè)界先進精密光學器件的制造。

6.生物醫(yī)療ALD可以通過低溫沉積形成非常致密的保護膜,由于是納米級別的膜厚其本身對醫(yī)療設(shè)備也不會造成影響,沉積ALD涂層后可以大幅度增加植入設(shè)備的壽命以及安全性,也有可能有效的減少更換手術(shù)的頻率;同時ALD有多種材料都具有生物相容性,這種涂層對人體組織是沒有任何細胞毒性的,這使得在再生醫(yī)學領(lǐng)域中,用于對細胞構(gòu)建生物相容性底物的制備時,ALD沉積表面涂層能滿足對新型生物相容性材料的需求;在藥物方面,ALD涂層可以有效的保護顆粒不受周圍空氣和水分的影響,從而大幅度的延長藥物的保質(zhì)期。

7.OLED:幾十納米厚度的ALD封裝膜甚至可媲美傳統(tǒng)OLED封裝技術(shù)的阻隔效果,同時具有良好的透光率、熱導率、機械強度、耐腐蝕性及與基底的粘結(jié)性等性質(zhì);ALD封裝薄膜因其納米級的膜厚,可以實現(xiàn)很大程度上的彎曲并保持封裝效果不變,這一特性可完美兼容柔性OLED器件封裝,真正做到顯示屏的可折疊、卷曲;ALD薄膜優(yōu)異的保型性使其在一些復雜形貌和三維納米結(jié)構(gòu)的LED表面實現(xiàn)出色的鈍化保護層,有效地起到阻隔水氧的作用,提高性能;用ALDLED表面沉積鈍化膜還可以很好地修補被等離子刻蝕造成的破壞性表面,可有效降低漏電流,顯著提高LED效率。





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